Выйти на платы: российский литограф ускорит производство микросхем в 3 тыс. раз

Команда из России, поддержанная НТИ, разработала проект многолучевого электронного литографа. По оценкам создателей, данная установка сможет экспонировать кремниевую пластину за пять-семь минут, что в три тысячи раз быстрее, чем у традиционных аналогов. Ключевым компонентом системы является мультикатод, который уже был изготовлен и протестирован. Этот элемент формирует множество электронных лучей одновременно, в отличие от традиционных литографов, использующих лишь один луч, что значительно увеличивает скорость обработки. Об этом сообщает портал ProGorodNSK.ru.

Евгений Гиваргизов, главный разработчик, сообщил, что созданы массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нанометра, что является одним из лучших результатов в мире. В отличие от зарубежных систем, где лучи расщепляются сложными схемами, новая технология формирует независимые источники на одной подложке, что снижает стоимость оборудования и упрощает его инфраструктуру.

Первый опытный образец может быть готов через три года. Технология предназначена для производства чипов с размерами от традиционных 350 нм до перспективных процессов с топологией в несколько нанометров. Предельное разрешение, как отмечают разработчики, зависит в первую очередь от характеристик фоторезистов.

Эксперты разделились во мнениях. Сергей Сазонов, специалист НТИ по микроэлектронике, назвал концепцию многообещающей, но отметил необходимость надежного управления большим количеством лучей. Сергей Варнавский указал на то, что проект находится на ранней стадии, и к моменту готовности установка может устареть. Тем не менее, на российском рынке, где конкуренция невысока, разработка может оказаться востребованной. В случае успеха она поможет уменьшить зависимость отечественной микроэлектроники от импортного литографического оборудования.